今天為大家隆重介紹我們全新升級的 GWDL-VAF系列真空氣氛爐——一款集高溫、高真空、智能控制于一身的高端材料處理設備，專為科研院所、高等院校及高端制造業量身定制。

首先，讓我們聚焦其核心性能——溫度控制。本爐采用x國導電高精度溫控儀，C型熱電偶（防止氧化與滲碳），實現控溫精度±1℃、恒溫精度±1℃，爐內溫場均勻度達±2℃，真正實現無超調、無波動的高穩定性燒結環境。升溫速率靈活可調，快則20℃/分鐘（非線性）慢則1℃/小時，適用于精細材料的熱處理。

爐膛采用10層金屬反射屏（3層鎢+2層鉬+2層310S+3層304）隔熱結構，配合高純鎢片發熱體，均勻分布四周，確保熱場均勻性與長期高溫穩定性。爐膛尺寸為300×200×200mm，適合多種材料的小批量實驗與生產。

真空系統我們選用干式真空泵+分子擴散泵組合，極限真空度可達6.67×10??Pa，抽速快、運行穩定。系統配備正負壓雙顯壓力表、支持氬氣、氫氣等多種氣氛。高溫段（＞1600℃）可通過氬氣正壓保護，有效防止發熱體和高溫反射屏蒸發。

設備搭載西門子S7-1200 PLC + 10寸觸摸屏，支持50段程序曲線自由編輯，具備實時數據記錄與導出功能，操作直觀、靈活可靠，并支持用戶分級管理，確保操作安全與工藝保密。

爐體采用304不銹鋼雙層水冷結構，外殼溫度長期運行≤45℃，配備5P冷水機、真空泵及全套氣路控制組件，即接即用，適用于陶瓷、金屬、半導體、新能源材料等多領域的高溫燒結、熔融與熱處理工藝。

此外，設備具備完善的正負壓運行與安全保護機制，多重聯鎖報警，全方位保障設備與人員安全。

我司專注高溫電爐研發制造近20年，擁有多項認證與專利，始終堅持以技術為驅動、以品質為根本，為全球材料研究與工業制造提供可靠的熱處理解決方案。

GWDL-VAF真空氣氛爐，不僅是設備，更是您科研與生產的得力伙伴。